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設備特點
處理速度快;超高圓度;孔壁光滑;邊緣平整、光滑、無毛刺;陡峭的側壁(高錐度);
顯著降低碳化.
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產品質量
售后服務
易用性
性價比
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
紅外氣體傳感器 Gasboard-2060
XRD系列晶向定位
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