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高真空電子束蒸發鍍膜設備TEMD500
高真空電子束蒸發鍍膜設備TEMD500

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型號

高真空電子束蒸發鍍膜設備TEMD500

品牌

北京泰科諾

產地

北京

樣本

暫無
北京泰科諾科技有限公司

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設備型號:TEMD500

鍍膜方式:E 型電子槍

真空腔室結構:立式圓柱形側開門結構,后置抽氣系統

真空腔室尺寸:Φ500mm×H600mm

加熱溫度:室溫~ 300℃

基片臺尺寸:平板型 Φ200mm

膜厚不均勻性:≤ ±5.0%

考夫曼離子源:可選

蒸發源:電子槍 10KW,6穴坩堝,國產/進口(可選), 配2套電阻蒸發

控制方式:PLC/PC(可選)

占地面積:L2500mm×W1600mm

總功率:≥ 17kW

適用范圍 :大專院校、科研院所及企業進行薄膜新材料的科研與小批量制備 

特點用途.jpg


1. 設備一體化設計,占地面積小,性價比高,性能穩定,使用維護成本低;

2. 可用于生產線前期工藝試驗等;

3. 實驗室制備導電薄膜、半導體膜、光學薄膜等,可同手套箱復合使用。


特點用途.jpg


1. 設備一體化設計,占地面積小,性價比高,性能穩定,使用維護成本低;

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