中國粉體網訊   近日中科院宣布，國內學者研發出一種簡單制備低維半導體器件的方法——用“納米畫筆”勾勒未來光電子器件，它可以“畫出”各種需要的芯片。這種制備方法適用于幾乎所有的半導體薄膜材料，但由于傳統材料的制備工藝已相對成熟，新方法更適合用于未來新型低維半導體材料的應用上。

隨著電子制造技術的發展，人們對電子芯片制造精度的要求越來越高，由此帶來半導體加工技術難度越來越高，以至于10nm以下的加工工藝逐漸成為行業技術壁壘，只有少數幾家企業掌握相關穩定生產的核心技術。

面對國內日益迫切的半導體加工產業技術升級需要，中科院表示，在可預期的未來，相關半導體加工企業需要在更小面積上集成更多電子元件。針對這種需求，厚度僅有0．3至幾納米的低維材料應運而生，這類材料可以用于制備納米厚度的電子器件。然而，從材料到器件這一過程所需要的繁瑣加工工藝為快速篩選合適的低維材料帶來較大影響。

由于二維材料屬于納米級材料，其性質很容易受環境影響。利用這一特性，研究人員在材料表面覆蓋一層鐵電薄膜，然后使用納米探針施加電壓在鐵電薄膜層掃描，通過改變對應位置鐵電材料的性質來實現對二維材料精準操控。研究人員只需要在設計好相關器件功能后，充分根據需要使用納米探針“畫筆”在鐵電薄膜“畫布”上畫出電子器件圖形，進而利用鐵電薄膜對低維半導體材料物理性質的影響制成所需器件。

實際實驗操作中的“畫筆”是原子力顯微鏡的納米探針，其作用相當于傳統晶體管施加正/負電壓的柵電極。相對傳統柵電極而言，原子力顯微鏡納米探針具有更高的移動性，因而在應用中探針就像一只“行走的畫筆”，研究人員只需控制加在針尖上電壓的正負性，就能輕易在水平空間上精確“畫出”納米尺度器件。比如存儲器、光探測器、光伏電池等等。

更令人驚奇的是在一個器件“畫好”以后，還可以通過施加不同掃描電壓寫成新功能的器件，就像在紙上寫字然后用橡皮擦干凈再重新寫上一樣，即同一個器件可以反復利用、實現不同功能。

用探針針尖寫出來的心形圖案，充分體現了圖形編輯的任意性。

研究人員還進一步將這種探針掃描技術應用于準非易失性存儲器。

準非易失性存儲器是指同時滿足寫入數據速度較快，保存數據的時間較長的一類存儲器。此外，這種器件制備技術還可用于設計“電寫入，光讀出”的存儲器。

由于低維半導體載流子類型在針尖掃描電場作用下會發生改變，這導致其發光強度也會出現明顯變化。因此結合掃描圖形任意編輯的特點，科研人員就可以設計出周期性變化的陣列。這些陣列圖形的每個區域都經過針尖去控制它的載流子類型，進而控制低維材料的發光強度，然后通過一個相機拍照就能直接獲取一張熒光強度照片。科研人員可以簡單直接地通過拍熒光照片的方式同時獲取每個存儲單元的信息。運用該技術，若用電壓讀出的方式，理論上的存儲密度可以達到幾個T－Byte／in2。

本研究由中國科學院上海技術物理研究所與復旦大學、華東師范大學、南京大學，中國科學院微電子研究所等多個課題組合作完成。研究成果已于2020年1月24日，發表于《自然－電子學》，文章標題“Programmable transition metal dichalcogenide homojunctions controlled by nonvolatile ferroelectric domains”。

相關文獻鏈接：https://doi.org/10.1038/s41928-019-0350-y

信息來源：中新社、中科院上海技術物理研究所、驅動之家、《自然－電子學》

（中國粉體網編輯整理/江岸）

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