中國粉體網(wǎng)訊 等離子體刻蝕技術(shù)作為關(guān)鍵的微納加工手段，已成為半導(dǎo)體制造過程中不可或缺的核心工藝。等離子體刻蝕通過應(yīng)用高能、高密度的等離子體實現(xiàn)材料的精確刻蝕，從而提升了集成電路的制造效率和良品率，使得半導(dǎo)體器件在高度集成的條[更多]
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