氮化鎵(GaN)是二十世紀九十年代以來常用于發光二極管的二元III / V直接帶隙半導體。該化合物是一種非常堅硬的材料,具有纖鋅礦晶體結構。其3.4 eV的寬帶隙為光電,高功率和高頻器件的應用提供了特殊的性能。例如,GaN是使紫色(405nm)激光二極管成為可能的基板,而不使用非線性光學倍頻。它對電離輻射的敏感性很低(與其他III族氮化物一樣),使其成為衛星太陽能電池陣列的合適材料。由于設備在輻射環境中表現出穩定性,因此軍事和太空應用也可能受益。由于GaN晶體管可以在更高的溫度下工作,并且工作電壓比砷化鎵(GaAs)晶體管高得多,因此它們可以在微波頻率下制造理想的功率放大器。此外,GaN為THz器件提供了有前景的特性。
2. 自支撐氮化鎵晶片特性
晶格參數 a=0.3189nm; c=0.5185nm
帶隙 3.39eV
密度 6.15g/cm3
熱膨脹系數 a: 5.59×10-6/K; c: 3.17×10-6/K
折射率 2.33-2.7
介電常數 9.5
熱導率 1.3W/(cm*k)
擊穿電場 3.3MV/cm
飽和漂移速度 2.5E7cm/s
電子遷移率 1300cm2/(V*s)
注:從2023年8月1日起,出口該產品需要出口許可證;國內供應不受影響產品描述
1. 氮化鎵單晶片規格
2. 自支撐氮化鎵晶片特性
晶格參數 a=0.3189nm; c=0.5185nm
帶隙 3.39eV
密度 6.15g/cm3
熱膨脹系數 a: 5.59×10-6/K; c: 3.17×10-6/K
折射率 2.33-2.7
介電常數 9.5
熱導率 1.3W/(cm*k)
擊穿電場 3.3MV/cm
飽和漂移速度 2.5E7cm/s
電子遷移率 1300cm2/(V*s)
注:從2023年8月1日起,出口該產品需要出口許可證;國內供應不受影響