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工藝參數:
一,真空系統
1、極限真空度:4.0×10-5Pa
2、抽至10Pa所用時間:≦ 10 分鐘
3、漏率: 3.0×10-5Pa m3/sec
二,控制精度
1、靶材旋轉:0.005°
2、工件旋轉:<1000RPM
3、編碼器: 12000lines;480000Counts/rev
4、膜厚修正板:0.005°
5、擋板: position switch
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產品質量
售后服務
易用性
性價比
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等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
XRD系列晶向定位
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