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用于去除SU-8這樣的厚光組層
還可以用于各向同性材料蝕刻，例如Si、SiO2、SiOxNy、W、Mo等
不受離子腐蝕的純化學腐蝕
集成RPS源（遙控/自由基等離子源）
等離子區域水冷
基板超低熱負荷
腐蝕速率高（很大范圍內不低于200μm/h）
基板尺寸可達460mm x 460mm
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