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產品性能：
*工作溫度：200～1200℃/2200℃
*結構方式：水平/垂直，片數：1/3/6/多片（科研/生產型）
*多溫區，動態高精度生長條件控制
*低壓、常壓、微正壓工藝方式，襯底片升降、旋轉（厚膜/晶體生長）
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