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Park XE7

創(chuàng)新研究的經(jīng)濟(jì)之選

Park XE7配有Park Systems的所有頂尖技術(shù)，而且價(jià)格十分親民。XE7在細(xì)節(jié)的設(shè)計(jì)上也相當(dāng)用心，是幫助您準(zhǔn)確且不超預(yù)算地完成研究的理想之選。

****的高性能

在同級產(chǎn)品中，Park XE7能夠帶來**納米級分辨率的測量效果。得益于獨(dú)特的原子力顯微鏡架構(gòu)，即獨(dú)立的XY軸和Z軸柔性掃描器，XE7能夠?qū)崿F(xiàn)平滑、正交且線性的掃描測量，從而精確成像和測量樣品的特征。此外，Park所獨(dú)有的True Non-Contact™模式還能為您帶來****的圖像效果，探針可以在多次掃描后圖像的分辨率仍不會(huì)受影響。

滿足當(dāng)前和未來需求

在Park XE7的幫助下，現(xiàn)在與未來皆在您的掌控中。Park XE7帶有業(yè)內(nèi)*全面的測量模式。這些模式不僅能滿足您目前的需求，也考慮到未來不斷變化的需求。再者，XE7具有市場上*為開放性的設(shè)計(jì)，允許您整合其他附件和儀器，從而滿足您特殊的研究需求。

易于使用和高生產(chǎn)率

Park XE7擁有簡潔的圖形用戶界面和自動(dòng)化工具，即便是初學(xué)者也可以快速地完成對樣品的掃描。無論是預(yù)準(zhǔn)直探針、簡單的樣品和探針更換、輕松的激光準(zhǔn)直、自上而下的同軸視角以及用戶友好型掃描控制和軟件處理，XE7能夠全力推動(dòng)研究效率的提高。

經(jīng)濟(jì)實(shí)惠超越了系統(tǒng)成本

Park XE7不僅僅是**性價(jià)比的研究級原子力顯微鏡，也是使用成本*低的原子力顯微鏡。Park XE7中所搭載的True Non-Contact™模式讓用戶無需頻繁更換昂貴的探針尖端，并且它配有業(yè)內(nèi)*多的掃描模式，兼容性**，讓您可隨時(shí)升級系統(tǒng)功能，從而延長產(chǎn)品的使用壽命

ParkXE7

滿足先進(jìn)研究的創(chuàng)新功能

精確的XY方向掃描，徹底消除了交叉耦合誤差

■樣品探針和針尖的兩種獨(dú)立閉環(huán)XY和Z平板式掃描

■平板式和線性XY掃描，殘余彎曲誤差極小

■整個(gè)掃描范圍內(nèi)的水平線性誤差小于2nm

■精確的高度測量

Non-ContactTM(真正非接觸TM)模式能夠延長針尖壽命，

提供高分辨率和保護(hù)樣品。

■其Z伺服速度是壓電管基礎(chǔ)系統(tǒng)的10倍

■非接觸式可降低針尖摩損、延長使用壽命

■成像分辨率優(yōu)于同類原子力顯微鏡

■增強(qiáng)樣品兼容性，提高掃描速度

*豐富的功能拓展方案

■支持多種SPM模式

■多種可選配測量模式

■多種可選配件及更新，擴(kuò)展性能優(yōu)越

*為便利的使用設(shè)計(jì)

■開放式樣品空間，提高樣品及針尖更換效率

■預(yù)對準(zhǔn)針尖安裝和同軸直視光路直觀地實(shí)現(xiàn)激光對準(zhǔn)

■燕尾鎖方便鏡頭拆卸

Park XE7

AFM技術(shù)

無掃描器弓形彎曲的平直正交XY軸掃描

Park的串?dāng)_消除技術(shù)不僅改善了掃描器弓形彎曲的缺點(diǎn)還能夠在各種不同掃描位置，掃描速度和掃描尺寸條件下進(jìn)行平直正交的XY軸掃描。即使是*平坦的樣品也不會(huì)出現(xiàn)如光學(xué)平面，各種偏移掃描等曲率的背景。由此可以為您在研究中遇到的所有**挑戰(zhàn)性的問題提供高精確度的納米測量。

無耦合關(guān)系的XY和Z掃描器

Park和競爭對手*根本的區(qū)別在于掃描器的構(gòu)造，Park獨(dú)特又獨(dú)立的XY軸與Z軸掃描器設(shè)計(jì)使其達(dá)到了無可比擬的高精度的納米分辨率數(shù)據(jù)。

精確的表面測量

樣品表面平直掃描!

■低殘差弓形彎曲

■無需軟件處理(原始數(shù)據(jù))

■不受掃描位置影響也會(huì)有精確的掃描結(jié)果

真正非接觸模式TM可保護(hù)針尖鋒利度

原子力顯微鏡的針尖本身很脆弱，在掃描過程中，針尖磨損會(huì)逐漸降圖片質(zhì)量和分辨率。

測量表面軟的樣品時(shí)，針尖也會(huì)破壞樣品并生成不準(zhǔn)確的樣品高度測量數(shù)據(jù)。

作為Park原子力顯微鏡*獨(dú)特的一種掃描模式，

真正非接觸模式TM可持續(xù)獲得高分辨率且精確的數(shù)據(jù)，同時(shí)保持針尖的完整性。

ParkXE7

配備創(chuàng)新的AFM技術(shù)

■10 um x 10um掃描范圍的二維柔性導(dǎo)向掃描器

XY軸掃描器含有對稱的二維柔性和高強(qiáng)度壓電疊堆，可在保持平面外運(yùn)動(dòng)*少的情況下，實(shí)現(xiàn)高正交運(yùn)動(dòng)以及納米級樣品掃描下的高影響度。緊湊且堅(jiān)固的結(jié)構(gòu)是為了低噪聲高速伺服回應(yīng)而設(shè)計(jì)的。

■柔性導(dǎo)向的高強(qiáng)力Z軸掃描器

憑借著高強(qiáng)度壓電疊堆和柔性結(jié)構(gòu)，其可以允許掃描器以**的速度縱向移動(dòng)，這是傳統(tǒng)原子力顯微鏡中掃描器所無法做到的。**Z軸掃描范圍可從標(biāo)準(zhǔn)的12μm增至40μm(選配件，長距離Z軸掃描器)。

■滑動(dòng)連接的SLD掃描頭

燕尾式軌道設(shè)計(jì)，輕松更換原子力顯微鏡鏡頭。該設(shè)計(jì)可將鏡頭自動(dòng)鎖定至預(yù)對準(zhǔn)的位置，同時(shí)與電路系統(tǒng)連接，無線纜操作，重復(fù)定位精度幾奈米。借助低相干性的830nmSLD激光器，顯微鏡可精確成像并可在皮牛量級進(jìn)行力-距離曲線獲取。此外，SLD激光器830nm的波長也消除了環(huán)境光照的干擾，讓用戶可隨意在可見光譜實(shí)驗(yàn)中使用原子力顯微鏡。

■操作簡易的樣品臺(tái)

開放式設(shè)計(jì)可容納**100mm*100mm*20mm的樣品，且可輕易從側(cè)面更換樣品和探針。

■手動(dòng)的XY軸樣品臺(tái)

在手動(dòng)XY軸樣品臺(tái)的精確控制下，樣品的測量定位變得簡單。 XY軸樣品臺(tái)的行程范圍是13mm x 13mm。

■手動(dòng)的光學(xué)對焦平臺(tái)

同軸鏡頭可手動(dòng)調(diào)焦。

以DSP為核心的電路控制系統(tǒng)

原子力顯微鏡的納米級信號是由高性能的Park XE電子控制器所控制和處理的。憑借著低噪聲設(shè)計(jì)和高速處理單元，Park XE電子控制器成功實(shí)現(xiàn)了True Non-ContactTM模式，這是納米級成像和精確電壓電流測量的**選擇。

■高性能DSP，頻率達(dá)600MHz，處理速度高達(dá)4800MIPS

■低噪聲設(shè)計(jì)，帶來精確的電流電壓測量

■全能系統(tǒng)，融合各種掃描探針顯微鏡技術(shù)

■外部信號獲取模塊，獲取原子力顯微鏡輸入/輸出信號

■**16位數(shù)字圖像

■**16位數(shù)字圖像

■16位ADC/DAC，頻率為500kHz

■利用TCP/IP連接隔離電腦噪聲

Park XE7

世界上*精準(zhǔn)和*容易操作的AFM

10μm x10μm掃描范圍的二維撓性導(dǎo)向掃描器

XY掃描器含系統(tǒng)二維柔性和強(qiáng)力壓電堆疊，全范圍正交移動(dòng)時(shí)，具有業(yè)界*小的水平線性誤差，并能實(shí)現(xiàn)精確的樣品納米級掃描。

帶高分辨率的同軸直視光路

同軸直視光路使得用戶直接俯視觀看樣品，從而很容易就能找到目標(biāo)區(qū)域。高分辨率CCD具備變焦功能，移動(dòng)過程中可確保清晰的圖像質(zhì)量。

簡單的探針和樣品更換

獨(dú)特的頭部設(shè)計(jì)讓您能夠輕易地從側(cè)面更換新的探針和樣品。借助安裝懸臂式探針夾頭中預(yù)先對齊的懸臂，你無需進(jìn)行繁染的激光校準(zhǔn)工作。

簡單且敏銳的激光校準(zhǔn)

憑借著我們先進(jìn)的預(yù)校準(zhǔn)懸臂架，懸臂在裝載時(shí)激光便可聚焦完畢。此外，自上而下的同軸視角讓您可以輕松地找到激光光點(diǎn)。由于激光垂直照射在懸臂上，您可以憑兩個(gè)定位旋鈕，將激光光點(diǎn)準(zhǔn)確定位。這樣，您可以在激光準(zhǔn)直界面中，輕易地找到激光并將其定位在PSPD上。此時(shí)，您只需要稍微調(diào)整以**化信號，便可開始獲取數(shù)據(jù)。

Park XE

適用于任何研究

標(biāo)準(zhǔn)成像

■真正的非接觸模式

■接觸模式

■間歇式(輕敵式)AFM

■橫向力模式(LFM)

■相位成像

化學(xué)性能

■功能化探針的化學(xué)力顯微鏡

■電化學(xué)顯微鏡(EC-STM和EC-AFM)

介電/電壓性能

■靜電力顯微鏡(EFM)

■動(dòng)態(tài)接觸式靜電力顯微鏡(DC-EFM)

■壓電力顯微鏡(PFM)

■高電壓PFM

力測量

■力-距離(F-D)光譜

■力-體積成像

■熱噪聲法標(biāo)定彈性系數(shù)

電性能

■導(dǎo)電AFM

■IV譜線

■掃描開爾文探針顯微鏡(SKPM/KPM)

■高電壓SKPM

■掃描電容顯微鏡(SCM)

■掃描電阻顯微鏡(SSRM)

■掃描隧道顯微鏡(STM)

■掃描隧道光譜(STS)

■時(shí)間分辨的光電流測繪(Tr-PCM)

磁性能

■磁力顯微鏡(MFM)

■可調(diào)外加磁場MFM

機(jī)械性能

■力調(diào)制顯微鏡(FMM)

■納米壓痕

■納米刻蝕

■高電壓納米刻蝕

■納米操控

■壓電力顯微鏡(PFM)

光學(xué)性能

■探針增強(qiáng)拉曼光譜(TERS)

■時(shí)間分辨的光電流測繪(Tr-PCM)

熱性能

■掃描熱感顯微鏡

選項(xiàng)

25μmZ掃描器

■工作距離：25μm

■激光類型：LD(650nm)orSLD(830nm)

■掃描器諧振頻率：1.7kHz

■零位掃描噪聲：0.03nm(typical)，0.05nm(maximum)

光學(xué)頭

■光學(xué)兼容性：上方及側(cè)面

■激光類型：LD(650nm)orSLD(830nm)

■Z掃描范圍：12μm or 25μm

■零位掃描噪聲：0.03nm(typical)，0.05nm(maximum)

■掃描器諧振頻率：3kHz(12μm XE Head)，1.7kHz(25μm XE Head)

磁場發(fā)生器

■施加外部磁場，平行于樣品表面方向

■強(qiáng)度范圍：-300 ~+300 高斯，-1500 ~ +1500高斯

■磁場強(qiáng)度可調(diào)

■由純鐵芯和雙螺線管組成

夾制探手

■適用于未裝載的探針

■可以為電力顯微鏡和導(dǎo)電顯微鏡提供偏壓

■探針偏壓范圍：-10V to +10V

■支持所有標(biāo)準(zhǔn)模式及高級模式，掃描隧道顯微鏡、掃描電容顯微鏡及液體成像除外。

液體池

■多功能液池

注滿液體/氣體的開式或閉式液池

控溫范圍：4°C to +110°C(in air)， 4°C to +70°C(with liquid)

■電化學(xué)工作池

■開放/閉式液池

液池用探手

■專為液體環(huán)境成像設(shè)計(jì)

■耐常見緩沖液及弱酸堿腐蝕

■在液體環(huán)境下實(shí)現(xiàn)接觸和非接觸成像

控溫臺(tái)

■制熱制冷臺(tái)(-25~180度)

■250度控溫臺(tái)

■600度0控溫臺(tái)

信號接入模塊

■使原子力顯微鏡可接入各種輸入/輸出信號

■XY及Z掃描器的掃描器驅(qū)動(dòng)信號

■XY及Z掃描器的位置信號

■垂直/水平方便的懸臂撓度信號

■樣品及懸臂的偏壓信號

■XE7的驅(qū)動(dòng)信號

■系統(tǒng)的輔助輸入信號

ParkXE7

產(chǎn)品系數(shù)：

掃描器

XY掃描器

閉環(huán)控制式單模塊柔性XY-掃描器

掃描范圍：100μm x 100μm

50μm x 50μm

10μm x 10μm

Z掃描器

柔性引導(dǎo)高力度掃描器

掃描范圍：12μm

25μm

光學(xué)系統(tǒng)

可觀察樣品和探針的直視同軸光學(xué)系統(tǒng)

10X物鏡(可選20X)

視場：480X360μm

CCD：1M像素(像素分辨率：0.4μm)

樣品尺寸

樣品尺寸：**10mm

樣品高度：**20mm

電路系統(tǒng)

高性能DSP : 600 MHz with 4800 MIPS

**圖像尺寸: 4096 x 4096像素， 16個(gè)數(shù)據(jù)圖像

信號輸入： 在500kHz取樣時(shí)， 16位ADC的20個(gè)通道

信號輸出： 在500kHz取樣時(shí)， 16位ADC的21個(gè)通道

同步信號 ：圖像結(jié)束， 線結(jié)束及像素結(jié)束TTL信號

主動(dòng)Q控制(選配)

懸臂梁彈性常數(shù)校準(zhǔn)(選配)

CE Compliant

電源 : 120 W

信號處理模塊 (選配)

選項(xiàng)/模式

標(biāo)準(zhǔn)成像

真正的非接觸模式

接觸模式

間歇式(輕敲式)AFM

橫向力模式(LFM)

相位成像

化學(xué)性能

功能化探針的化學(xué)力顯微鏡

電化學(xué)顯微鏡(EC-STM和EC-AFM)

介電/壓電性能

靜電力顯微鏡(EFM)

動(dòng)態(tài)接觸式靜電力顯微鏡(DC-EFM)

壓電力顯微鏡(PFM)

高電壓PFM

力測量

力-距離(F-D)光譜

力-體積成像

磁性能

磁力顯微鏡(MFM)

可調(diào)外加磁場MFM

光學(xué)性能

探針增強(qiáng)行拉曼光譜(TERS)

時(shí)間分辨的光電流測繪(Tr-PCM)

電性能

導(dǎo)電AFM

I-V譜線

掃描開爾文探針顯微鏡(SKPM/KPM)

高電壓SKPM

掃描電容顯微鏡(SCM)

掃描電阻顯微鏡(SSRM)

掃描隧道顯微鏡(STM)

掃描隧道光譜(STS)

時(shí)間分辨的光電流測繪(Tr-PCM)

機(jī)械性能

力調(diào)制顯微鏡(FMM)

納米壓痕

納米刻蝕

納米刻蝕

納米操縱

壓電力顯微鏡(PFM)

熱性能

掃描熱感顯微鏡

樣品臺(tái)

XY臺(tái)工作范圍：13X13mm

Z臺(tái)工作范圍：29.5mm

聚焦臺(tái)工作范圍：70mm

軟件

XEP

系統(tǒng)控制和數(shù)據(jù)采集的專用軟件

實(shí)時(shí)調(diào)整反饋參數(shù)

通過外部程序(選項(xiàng))進(jìn)行腳本級控制

XEI

AFM數(shù)據(jù)分析軟件