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提供 Blue Label 和 Red Label 型號品牌
馬爾文帕納科產地
英國樣本
暫無誤差率：
N/A分辨率：
N/A重現性：
±2%儀器原理：
動態光散射分散方式：
N/A測量時間：
3-5min測量范圍：
0.3 nm 至 10μm看了納米粒度及電位分析儀Zetasizer Pro的用戶又看了
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Zetasizer Pro是一款功能強大、用途廣泛的常規實驗室測量解決方案，可測量顆粒粒度、分子大小、電泳遷移率、Zeta 電位和分子量。 與以往型號相比，其粒度測量速度超過以往的兩倍，大大加快了樣品處理速度。
由于采用非侵入背散射 (NIBS) 光學設計，該技術將背散射檢測技術與可變測量位置和高效光纖技術結合在一起，與傳統DLS相比，顯著增加了樣品濃度范圍和粒度的測量范圍。
濾光片轉盤提供熒光濾光片以及垂直和水平偏振片，以實現分析靈活性。
憑借以下優勢，即使剛入門的用戶也能使用 Zetasizer Pro 完成高質量的測量：
動態光散射 (DLS) 用于測量從0.3 nm 到 10 μm 的顆粒和分子的粒度及粒度分布
電泳光散射 (ELS) 用于測量顆粒和分子的Zeta電位，以顯示樣品穩定性和/或團聚傾向性
非侵入背散射 (NIBS) 技術顯著擴大了動態范圍，即使是處理非常濃縮的樣品，也能實現高靈敏度
具有恒流模式的M3-PALS可以在高導電介質中測量Zeta電位和電泳遷移率
以樣品為中心的ZS Xplorer軟件可以實現靈活的指導式使用，并可輕松構建復雜的模型
“自適應相關”算法能生成可靠且可重復的數據，同時計算速度超過以往的兩倍，可在減少樣品制備的情況下更快速地執行更多可重現的粒度測量，實現更具代表性的樣品視圖
通過深度學習實現的數據質量系統可以評估粒度數據質量問題，并針對如何改進結果提供明確的建議
濾光片轉盤提供熒光濾光片以及垂直和水平偏振片，以實現分析靈活性
如果您的需求發生改變，可現場升級到Zetasizer Ultra
可選的 MPT-3 自動滴定儀可幫助研究 pH 值變化的影響
一系列可拋棄及可重復使用的樣品池可優化不同樣品體積和濃度的測量
Zetasizer Pro 應用廣泛，包括：
Zetasizer是全球眾多學術實驗室的重要分析工具，廣泛用于所有需要分析顆粒或分子大小以及 Zeta 電位的應用領域。 Zetasizer應用領域廣泛，被科學文獻引用的次數達上萬次，成為許多科研機構的核心設備。
在生物制藥應用中，溫度或pH值變化、 攪拌、剪切和時間都會影響生物分子的 穩定性，造成變性和聚集、功能喪失， 還可能會產生不良免疫反應。Zetasizer提供快速的純度和穩定性篩選，并可協助配方開發， 從而優化流程和產品，消除風險。
Zetasizer用于分析顆粒粒度和Zeta電位，以改善食品、飲料和調味料的外觀及味道，并優化分散和乳化穩定性，從而延長產品保存期限，提高產品性能。
Zetasizer所測量的納米顆粒粒度分布、分散特性、穩定性和團聚傾向是新納米材料設計的關鍵。 此類材料的超大表面積可能會帶來新的物理和化學性質，比如更高的催化活性和溶解度，或者出乎意料的光學或毒理學性質。
油漆、油墨及涂料配方必須穩定，以使它們在一段時間內保持**狀態而不會發生變化或團聚。 Zetasizer測量的顆粒粒度和Zeta電位在確定產品特性（例如分散性、顏色、強度、光潔度、耐久性和保存限期）方面起著至關重要的作用。
粒度和Zeta電位檢測有助于確保安全有效的治療。Zetasizer用于表征分散體系、乳化液和乳膏的穩定性和質量，從而減少配方時間，加快新產品上市。
改良多種消費品時，需要了解和控制膠體參數，引導顆粒間的相互作用，并改善產品的穩定性和性能。其中一個例子是膠束和乳液的粒度和電荷對化妝品和洗滌劑性能的影響。Zetasizer可表征表面活性劑的膠束大小、電荷和臨界膠束濃度， 并測量乳液的液滴大小和穩定性。
動態光散射(DLS)，電泳光散射(ELS)
隨著動力電池和新能源汽車的需求爆發，鋰電正極材料也正在快速迭代，其中三元材料逐漸成為動力電池的主流選擇。目前三元材料中的鎳鈷錳成分分析多采用ICP分析方法，化學分析過程相對復雜、分析時間長、梯度稀釋誤
2021-08-06
XRF在鋰電正極材料元素分析中的應用 水泥和似水泥物（混合材）體系水化過程的X射線衍射分析 馬爾文帕納科綜合樣本手冊 
展期：2025年3月10日-12日展館：上海世博展覽館 H1 號館地址：上海市?浦東博成路850號展位號：H1-A4262025年3月10日至12日，馬爾文帕納科（Malvern Panalytica
為了更好的服務于一直以來選擇并支持馬爾文帕納科分析技術的廣大用戶，除了上述客戶關懷季的巡檢活動，我們還將在4月奉上一系列服務日活動：四場分別針對激光粒度儀、納米粒度儀、X射線衍射儀、X射線熒光光譜儀用
近日，馬爾文帕納科（Malvern Panalytical）宣布其最新推出的X射線熒光光儀（XRF）"Revontium 極光"正式接受訂單，并成功在美國High Desert A
本文摘要磨料用SiO2 漿料的顆粒粒度對硅晶片的微觀形貌有直接影響，進而會影響到后續工序電介質膜的均勻性；此外，漿料的穩定性也會影響晶片拋光過程，所以磨料的顆粒表征非常重要，本文介紹了利用動態光散射技
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