中國粉體網訊 隨著高精尖產業的快速發展，高純石英的需求量快速增長，并且對其質量要求也愈來愈高。生產高純石英砂的方法主要有兩大類：一是物理法，也叫機械粉碎法；二是化學合成法。目前高純石英砂主要通過天然石英礦石提純得到，產能與高品質礦源密切相關，高純石英砂產業主要被擁有高品質高純石英原料礦的海外企業壟斷。
隨著全球范圍內天然水晶和高品質石英礦脈的逐漸枯竭，化學合成石英砂的工藝逐漸得到研究和重視。
合成石英砂的制備方法
氣相合成法
氣相合成法即火焰水解法，與氣相白炭黑工藝類似，其原理是采用硅或有機硅的氯化物（如SiCl4或CH3SiCl3等)原料，將其氣化后與氫氣、氧氣混合，在高溫下發生水解形成霧狀的SiO2，最后通過冷卻、分離、脫酸等氣固分離得到產品。該法得到的產品為氣相SiO2，粒徑小于100nm，外觀蓬松多孔，比表面積大，化學純度高，分散性較好。
氣相合成法制備SiO2流程圖
氣相合成法生產流程簡單，合成條件易控制，反應速度快，適合大規模生產；由于過程中需要高溫環境，反應生成的HCl會嚴重腐蝕設備，因此對生產設備的材質、加熱形式等要求比較嚴格。由于氣相法耗能大，加工成本較高，還需在反應條件與設備選型等方面進一步地探討和研究。
化學沉淀法
化學沉淀法是合成石英粉體較為廣泛的方法之一。沉淀法生產SiO2的原理：采用硅酸鈉與二氧化碳或酸溶液（加鹽酸、硫酸或硝酸）作為原料，在一定的合成溫度和表面活性劑的作用下混合反應，得到偏硅酸沉淀，再經過濾、洗滌、干燥、煅燒工序制備出SiO2。
沉淀法制備SiO2流程圖
該生產工藝具有操作方便，生產流程簡單，原料易得，能耗低等優點；但是Fe3+、Al3+、Ca2+等雜質的存在會促成凝塊的形成，嚴重影響產品的質量，導致產品性能差、純度低、粒徑大，易發生團聚；也存在著反應體系的濃度較低、沉淀速度快、沉淀過程不易控制的缺點；另外，廢酸、廢水的處理給環境帶來一定的破壞。
溶解-凝膠法
溶膠-凝膠法是以無機鹽或者金屬醇鹽（一般為硅酸乙酯）為原料，以醇作為共溶劑，加入酸或堿溶液作為催化劑，進行水解，縮聚反應形成SiO2凝膠，過濾并對凝膠中的有機溶劑進行洗滌，干燥、煅燒得到SiO2粉體。
采用該方法制備SiO2生產流程簡單，合成條件易控制，對設備材料的要求不嚴格，且過程中無其他添加劑，所以制備出的SiO2純度較高、均勻度好、比表面積大。但是，成本較高，生產周期長，工業化價值不大；另外，因為實驗過程中可變因素較多，不能達到準確控制（如水解體系、干燥方式及燒結途徑等），目前只停留在實驗室小試階段。
四氯化硅液相水解法
四氯化硅液相水解法的原理是SiCl4與純水接觸發生水解或縮聚反應，之后將反應產物經洗滌、過濾、干燥、煅燒、篩選等流程，制備SiO2粉體。
采用SiCl4液相水解法制備高純石英粉，由于原料中不含碳，故制備得到的SiO2粉體純度較高、羥基含量較低。但是，在規模化生產過程中，四氯化硅與水發生的水解和縮聚反應劇烈，中間過程難以管控，粉體易團聚，形成的石英粉致密度較低。因此，為了滿足產業化生產，該法仍需更深入地探究其工藝控制（如水解控制、干燥及燒結過程等），有效減少顆粒團聚現象的發生。
合成石英砂的應用
合成石英砂的生產不依賴于天然石英礦產，可通過化工工藝制備。又因為其純度更高、光學性能更良等特性，除了在光伏、高端光學領域得到廣泛應用以外，也符合半導體制程對石英制品高純、無污染、耐高溫的要求，尤其是隨著半導體芯片線寬越來越窄，普通的天然石英材料已經無法滿足高端生產工藝的要求。
半導體與光伏用石英制品類型基本一致，但與光伏相比，半導體用石英制品在純度、表面顆粒物、尺寸精度等方面要求更為苛刻，最高級別純度要求近6N，且需通過半導體設備廠商的認證，合成石英砂可滿足此純度要求。
2025年3月27日，由中國粉體網主辦的“2025第三屆集成電路及光伏用高純石英材料產業發展大會”將在江蘇東海召開，來自湖北菲利華石英玻璃股份有限公司的產品業務經理朱夢瑤，將做題為《合成石英砂的制備工藝及應用介紹》的報告，屆時，她將結合菲利華產品研發經驗，詳細介紹合成石英的生產與制備。
參考來源：
張鵬遠.合成石英砂工藝概況及幾種石英砂的檢測數據對比分析
李愛民.高純合成石英的制備技術和應用
（中國粉體網編輯整理/初末）
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