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填補國內空白!化學氣相沉積碳化硅生產線即將在常山投產


來源:常山發布

[導讀]  浙江大和半導體產業園三期建設項目竣工儀式舉行。

中國粉體網訊  8月3日上午,在常山縣2023年三季度重大項目“三集中”儀式后,浙江大和半導體產業園三期建設項目竣工儀式舉行,標志著常山正式成為全球半導體裝備核心零部件重要制造生產基地。其中由浙江富樂德半導體材料科技有限公司導入的化學氣相沉積碳化硅生產線將填補國內空白,破解集成電路半導體裝備卡脖子技術問題,為全國半導體行業發展貢獻強大力量。



浙江大和半導體產業園三期建設項目由浙江盾源聚芯半導體科技有限公司和浙江富樂德半導體材料科技有限公司投資建設,總投資近20億元。浙江盾源聚芯半導體科技有限公司將導入高純硅部件項目,為不斷增長的國產化半導體裝備需求提供支持。浙江富樂德半導體材料科技有限公司將導入高純氧化鋁及化學氣相沉積碳化硅產品生產線,氧化鋁產品具備優異的耐高溫、抗氧化、耐腐蝕、耐磨耗、高導熱、高絕緣性等特點,被廣泛運用于半導體、LED液晶顯示、激光、醫療設備等高精尖領域,從國外引進的化學氣相沉積碳化硅產品生產線將填補國內空白,破解集成電路半導體裝備卡脖子技術問題,為全國半導體行業發展貢獻強大力量。


據了解,項目全部滿產后,浙江大和半導體產業園將成為年產值近50億元,集高純石英部件精密半導體金屬部件熱電半導體制冷器件高純硅部件化學氣相沉積碳化硅精密半導體陶瓷產品的生產、研發、銷售為一體的全球半導體裝備核心零部件重要制造生產基地,也將為常山“一片芯”產業高質量發展提供強有力的支撐保障。


目前我國在半導體供應鏈發展過程中,最卡脖子的是材料、設備和工藝。Ferrotec在常山的投資填補了中國半導體整個供應鏈的許多空白,為實現半導體產品國內自循環打下了堅實的基礎。


“化學氣相沉積碳化硅對于半導體裝備來說必不可少,但是長期以來產品依賴日本進口。這次三期項目把生產設備從日本導入中國、導入常山,對中國半導體產業發展具有深遠意義,它實現了產品國內供給、填補了行業空白、破解了卡脖子難題,屆時中國的半導體裝備企業和芯片產商需要這類產品就不需要進口。”賀賢漢說,下一步,企業將加大投資力度,不斷做大做強,為中國半導體和常山“一片芯”產業發展貢獻更大力量。


(中國粉體網編輯整理/空青)

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