推薦高速離心納米粒度儀在研磨拋光行業中的應用

中國粉體網訊 化學機械拋光(CMP)是集成電路的關鍵制造步驟之一，其效果直接影響到晶圓、芯片最終的質量和良率。典型的CMP漿料由分散在酸性或堿性溶液中的納米或者亞微米級磨料組成，磨料顆粒的粒度分布是直接影響CMP效果也即平均[更多]