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光學設計
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型號

光學設計

品牌

坦普瑞

產地

上海

樣本

暫無
坦普瑞(上海)光電科技有限公司

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 擁有多位資深的光學設計專家,可以為客戶提供專業化的光學系統設計服務以及產品的定制服務。光學設計項目:成像光學設計:紅外鏡頭,手機鏡頭,指紋儀鏡頭,照相鏡頭,CCTV鏡頭,望遠鏡頭,掃描儀鏡頭,顯微鏡頭,投影鏡頭,工業鏡頭等成像系統的設計。

詳細參數
儀器指標
檢測項目
超高精密自動測角儀( PrismMaster HR MOT Goniometer)
測量工作臺直徑:Φ200mm;單次測量**精度:0.5";多次測量**精度:>0.2";測量范圍:0°~360°任意角度;微調旋鈕轉動精調:+/-30″
測量棱鏡、多邊棱鏡、光楔、窗口以及其他平面光學器件
光學測量工作站( Optical Test Station)
工作波長:525nm;  焦距:測量范圍:-500mm~-5mm,+5mm~+500mm,重復性:±0.04%~0.3%,精度:±0.04%~±0.3%
后截距及法蘭焦距(BFL/FFL):測量范圍:-500mm~-5mm,+5mm~+500mm,重復性:±0.04%~0.3%,精度:±0.04%~±0.3%
曲率半徑:測量范圍:-500mm~-5mm,+5mm~+500mm,重復性:±0.04%~0.3%,精度:±0.03%~±0.3% 
驅動的XY臺面:移動范圍:200mm×150mm,分辨率:1μm
測量柱面和球面透鏡的:焦距( EFL )、后截距及法蘭焦距( BFL , FFL )、正/負曲率半徑:對于柱面鏡,額外測量功能:中心偏差(柱軸的頂線與參照面之間的偏差,參照面可為柱面鏡的外沿面)、柱袖與機械參考線的扭轉角度。
通用途紫外/可見光傳遞函數測試儀(IS-300 UV/VIS MTF TESTSYSTEM)
可測量參數:MTF、**焦平面、場曲、象散、色差、畸變、EFL等;MTF測量精度:+/-0.02MIF;MTF測量重復性:+/-0.01MTF;
場曲:優于+/-5μm;畸變:優于+/-0.5%;焦距測量范圍:3mm~1000mm;**數值孔徑:0.85
在可見光及紫外波段對光學系統或光學組件的傳遞函數、焦距和畸變等參數進行測量
鏡面定位儀( LENSCAN System)
測量范圍:0~600mm光學長度;測量精度:+/-0.15μm;測試重復性:標準偏差 STDEV<100nm(30次測量)
主要用于光學系統中的透鏡間隔和厚度測量
超高精密全自動球徑儀( Automatic Spherometer)
曲率半徑測量精度:0.005%;半徑測量范圍:凸:+3mm~無限;凹:-6mm~無限
用于高精度光學樣板曲率半徑測量和光學元件曲率半徑檢驗
大口徑激光干涉儀( Verifire XP/D Interferometer)
三平板重復性:<2nm,λ/300;RMS重復性:<0.1nm,λ/10,000;條紋分辨率:180條紋;分辨率:>λ/8,000( 二次通過);相干長度:>100m
精密測量各種反射面和光學系統的表面面形、精密測量光學系統的傳輸波前
菲索型動態干涉儀( Intellium     H2000 Interferometer)
測量元件反射率范圍:0.1%-100%;測試精度PV值優于100; 1K*1K空間分辨率,優于300的條紋分辨率;相干長度:>328ft(100m)
測量光學件表面、機械拋光表面和半導體晶片表面
橢偏儀( Ellipsometer)
光譜范圍:190-1100nm;樣品**直徑:200mm;自動變角范圍:15°~90°;單色光源的焦距:160mm
用于研究分析半導體、電介質、聚合物、金屬、多層膜等材料的特性,可測量其透射、反射、相位延遲量、雙折射、退偏、散射和穆勒矩陣等
TESA VISIO 300 GL同軸變焦型影像測量儀
XY平面精度:(2.0+4L/1000)μm,(L單位為mm);z軸精度(2.9+5L/1000)μm,(L單位為mm);
測量范圍300X200X150mm(X/Y/Z);工作臺表面尺寸:510x480m(X/Y);工作臺承重:16公斤;
通過光學成像完成非接觸測量,特別適合于沖壓件,塑料件,注塑件和絲膜印刷,電子等行業的測量要求
非球面檢測儀( LuphoScan measuring system)
精度(光束入射角度<2°):拋光:Ra<1μm  1μm≤Ra≤3μm  ±50mm  ±250nm  ±1μm ;測量范圍:420mm(直徑)×80mm(高度);
重復性:±20nm(2σ);縱向分辨率:0.1nm;光斑大小:4μm;**測試口徑:420mm
用于旋轉對稱表面的光學鏡片面形測量,包括球面、非球面、平面、柱面、錐面等
LAS激光定心裝配工作臺( Laser Alignment and Assembly Station)
測量精度:TIR 0.5um;直線導軌:1250mm;有效工作空間:1.0m;樣品臺:Φ400mm;空氣軸承,承重:900kg;
軸向/徑向跳動精度:0.05m,軸晃動:0.025um/25mm;高精度杠桿表:0.1um
用于光學系統單元裝配、系統調試過程中光學元件中心偏差的精密測量和校正
粗糙度微輪廓儀( Surface Profiler)
測量范圍:**可測直徑Φ300mm;測量陡度:**可測70°;球面測量的重復性:<100nm
用于光學元件的表面粗糙度和面形測量


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10分

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