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HTAF-1400-12真空氣氛爐滿足于不同工藝實(shí)驗(yàn)而特殊制造，適用于電子陶瓷與高溫結(jié)構(gòu)陶瓷的燒結(jié)、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結(jié)、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，是科研單位、高等院校、工礦企業(yè)理想的實(shí)驗(yàn)和生產(chǎn)設(shè)備.

HTAF-1400-12真空氣氛爐以硅碳棒為加熱元件，爐體采用雙層爐殼結(jié)構(gòu)，雙層風(fēng)冷系統(tǒng)，可以快速升降溫，爐殼表面溫度低；爐門(mén)、爐頂采用高溫硅橡膠密封，爐門(mén)配備水冷系統(tǒng)(可選)。爐體上有進(jìn)氣口、出氣口、抽真空口。爐膛材料采用優(yōu)質(zhì)的進(jìn)口氧化鋁多晶纖維真空吸附制成，節(jié)能50%，加熱元件采用硅碳棒。電爐溫度控制系統(tǒng)采用人工智能調(diào)節(jié)技術(shù)，具有PID調(diào)節(jié)、模糊控制、自整定能力并可編制各種升溫程序等功能，該控制系統(tǒng)溫度顯示精度為1℃，溫場(chǎng)穩(wěn)定度±5℃，升溫速率1~20℃可任意置。可以通氫氣、氬氣、氮?dú)獾绕渌麣怏w，并能預(yù)抽真空，真氛壓力可以達(dá)到0.1Mpa,爐體采用厚鋼板加工而成，安全可靠，符合國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)。

真空氣氛爐又名無(wú)氧退火爐、真空氣氛燒結(jié)爐等，物體在通入一定氣體的爐膛內(nèi)進(jìn)行燒結(jié)的方法。不同的材料選擇適宜的氣氛燒結(jié)，有助于燒結(jié)過(guò)程，提高制品致密化程度、獲得良好的性能的制品。真空氣氛爐常用的有真空、氫、氧、氮和惰性氣體（如氬）等各種氣氛。例如透明氧化鋁陶瓷可用氫氣氛燒結(jié)，透明鐵電陶瓷宜用氧氣氛燒結(jié)，氮化物陶瓷如氮化鋁等宜用氮?dú)夥諢Y(jié)。 有時(shí)為保護(hù)燒結(jié)調(diào)協(xié)也須在保護(hù)氣氛中操作。如鉬絲爐宜通氫，鎢絲爐宜在真空條件下工作。