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我公司生產的拋光研磨用氧化鋁粉采用精選工業級氧化鋁粉為原材料，通過90米的隧道窯凝燒，產品受熱均勻，a 結晶轉化率高。 通過球磨，氣流二次分級，粒度分布范圍窄，研磨效率高，拋光效果好，研磨效率遠遠高于二氧化硅等軟質磨料，由于顆粒形貌 好，被拋光物品表面光潔度高在*后一道精拋光上優于白剛玉的研磨拋光效果。廣泛應用與鋁材、鋼材、不銹鋼、石材、玻璃等 的研磨拋光。自投放市場以來，得到用戶的一致好評，尤其在不銹鋼，銅材等金屬材料及玻璃行業的研磨拋光中，充分顯示了該 產品的優越性能。
| 規格 | Al203 | Na20 | D10(um) | D50(um) | D90(um) | 原晶顆粒 | 比表面積(m2/g) |
| 12500# | ≥99.6 | ≤0.02 | >0.3 | 0.7-1 | <6 | 0.3 | 2-6 |
| 10000# | ≥99.6 | ≤0.02 | >0.5 | 1-1.8 | <10 | 0.3 | 4-7 |
| 8000# | ≥99.6 | ≤0.02 | >0.8 | 2.0-3.0 | <17 | 0.5 | <20 |
| 6000# | ≥99.6 | ≤0.02 | >0.8 | 3.0-3.5 | <25 | 0.8 | <20 |
| 5000# | ≥99.6 | ≤0.02 | >0.8 | 4.0-4.5 | <30 | 0.8 | <20 |
| 4000# | ≥99.6 | ≤0.02 | >0.8 | 5.0-6.0 | <35 | 1.0-1.2 | <20 |
氧化鋁粉用途
金屬拋光(可在壺、盤及餐具);石材拋光(大理石、花崗巖)和玻璃拋光(光學鏡頭，普通玻璃);單晶硅片/半導體/IC卡特種玻璃的精密拋光電 視機和計算機顯示器/顯像管等，其中XL-01、XL-02系列產品，主要用于不銹鋼的拋光，可實現鏡面拋光，在粒徑:1-2um之間的完全可以代 替德國馬丁的P12-1產品。可以使拋光蠟和研磨膏產品性能提高到一個新的水平。
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