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EMU-120/65是一款能夠兼顧高通光量、高分辨率和寬光譜測量的中階梯光柵光譜儀，采用數值孔徑F/3的光學設計，波長范圍190-1100nm，分辨力60，000（λ/FWHM），并獲得美國**保護。EMU-120/65中階梯光柵光譜儀是LIBS、拉曼、OES/AES、光致發光等測量的理想工具，相比F/10中階梯光柵光譜儀，靈敏度提高10倍以上。
EMU-120/65的另一大優勢可以選用EMCCD相機，相比于ICCD相機具有更高的量子效率、分辨率和幀頻，而且EMCCD相機不會輕易被強光損壞，對使用條件的要求不高。
此外，超低雜散光的光學設計加上軟件控制的雜散光去除算法，使得EMU-120/65成為一款針對吸收光譜測量非常強大的儀器。
產品特點：
- 高通光量F/3
- 光譜分辨力60，000（λ/FWHM）
- 寬光譜范圍190-1100nm（可選400-1700nm）
- 無需機械掃描，一次曝光獲得全光譜
- 用戶可自行更換光柵和入射狹縫，靈活調整通光量和分辨率
光譜分辨力
EMU-120/65**的光學設計實現了單個像素的分辨力。能夠清晰分辨汞Hg的雙峰313.155nm和313.184nm。每個峰對應一個CCD像素寬度（8微米），FWHM值0.0049nm ，分辨力63，000。
通光量/收光效率
下圖是EMU中階梯光柵光譜儀（藍色）和SE 200中階梯光柵光譜儀（紅色）測量氘/鹵鎢燈的光譜對比，其中EMU數值孔徑F/3，SE 200數值孔徑F/10，兩臺光譜儀采用相同的光柵、相機和狹縫。
下圖是鐵元素Fe的LIBS光譜對比，EMU中階梯光柵光譜儀搭配EMCCD（藍色），SE 200中階梯光柵光譜儀搭配ICCD（紅色）。
雜散光和散射光
下圖的過度曝光的HeNe激光線顯示了主要是由光柵引起的小角度散射。散射光被測量為HeNe峰值強度的一部分，并且它在距離峰值1納米處下降到CCD動態范圍極限以下。EMU-120/65旨在* 大限度地減少受散射影響區域的雜散光。
產品指標：
數值孔徑 | F/3 |
焦長 | 120mm |
放大率 | 0.54 |
波長范圍 | 190-1100nm |
散射光 | 2.0 x 10-5 @ 1nm HeNe激光 |
雜散光 | 2.0 x 10-6 |
光纖輸入 | SMA接頭 |
入射狹縫 | 用戶可以自行更換不同規格的狹縫 狹縫寬度8-128微米，狹縫高度12-128微米 |
光譜分辨力 | 用戶可以自行更換不同型號的光柵，不同型號對應不同的分辨力R HT Series: up to R = 9，500 HR Series: up to R = 12，000 UV Series: up to R = 30，000 IS Series: up to R = 40，000 IX Series: up to R = 60，000 |
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