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上市時間：2020年1月
1、獨立雙光室，確保所有分析譜線都獲得**分辨率。 SPECTROLAB S 配備兩套完整的專用光學系統。一個光室精確測量波長從120到240納米（nm）;另一個光室，波長范圍從210到800納米（nm）。 兩個光室都采用先進的CMOS檢測器，具備恒溫裝置和壓力補償功能 2、等離子發生器數字光源和點火板 可靠的新型高能LDMOS等離子發生器光源，為SPECTROLAB S 輸出超級穩定的火花放電，頻率**1000 Hz。結果：*短的測量時間（例如：分析低合金鋼小于 20 秒）。該系統還允許特定應用的火花參數設置，以優化分析性能。 3、精密氬氣控制系統 SPECTROLAB S 采用全新程控流量。軟件根據分析程序精密設置氬氣流量。節約了氬氣消耗。氬氣閥體直接耦合到火花臺，無需管道連接。避免漏氣。 4、火花臺清理間隔大大延長 堅固的陶瓷內芯避免積塵粘附。流暢的氣路設計確保了*少的粉塵殘留（使得清理間隔時間延長了8倍）；對于大樣品量輸出的全自動光譜儀系統尤為重要。 5、快速讀出系統 斯派克的GigE創新讀出系統確保海量數據的極速處理，從而支持**的儀器性能表現。實現了獨特的全光譜范圍譜圖記錄。 6、超低檢出限。SPECTROLAB S 采用的 CMOS+T技術，在關鍵元素的檢測限方面，超越光電倍增管技術的性能。通過配置**參比通道，工作曲線可以**程度獲得優化?？梢钥焖俣糠治鰌pm量級的高純金屬或合金中的痕量元素。
作為電弧/火花創新技術的**者，40多年來，SPECTRO全心投入開發出世界先進的發射光譜儀。今天，斯派克公司**引入CMOS探測器技術，徹底改變了高端電弧/火花分析技術的走向及未來。在所有同類分析儀中，SPECTROLAB S所提供分析速度超出想象，元素檢測限低至極限，同時她也可以提供超長的正常運行時間和非常具有前瞻性的靈活性。
SPECTROLAB S 擁有世界上全新基于CMOS的探測器的記錄系統，該系統非常適合于高端金屬分析。從微量元素到多基體應用，它提供了極其快速、高度準確、異常靈活的技術選擇。
樣品的分析速度是儀器先進性的重要標志，SPECTROLAB S的推出完全滿足了金屬分析市場對速度的需求。例如：當檢測低合金鋼時，它可以在20秒或更短的時間內提供高準確度的測量值！
從技術指標和實際使用效果看，SPECTROLAB S均是目前金屬冶煉廠適合的、高性能的光譜儀。對于金屬再加工生產商、汽車和航空航天制造商、以及成品和半成品、電子產品、半導體等制造商來說，她給出的解決方案同樣出色。
20秒內獲得高準確度的結果（例如：低合金鋼）
定期維護的工作量（火花臺清洗）減少8倍
元素在低合金鋼中平均檢測限改善2倍，元素在純鋁中的平均檢測限改善5倍
儀器的占地面積減少27%
單一標樣實現整個系統的標準化， 此項每天可節省30分鐘工作時間
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