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設備特點
1. 高真空系統由雙級旋片真空泵和分子泵組成，**真空可達10-4Pa；
2. 可配合壓強控制儀控制氣體壓力，實現負壓的精準控制；
3. 數字質量流量控制系統是由多路質量流量計，流量顯示儀等組成，實現氣體的流量的精密測量和控制；
4. 每條氣體管路均配備高壓逆止閥，保證系統的安全性和連續均勻性；
5. 采用KF快速法蘭密封，裝卸方便快捷；
6. 管路采用世界**Swagelok卡套連接，不漏氣；
7. 超溫、過壓時，自動切斷加熱電源及流量計進氣，使用安全可靠；
8. PECVD借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，更容易發生反應。
設備參數
類別 | 加熱爐 | 射頻電源 | 真空系統 | 混氣系統 | 壓強控制系統 | 尾氣處理系統 | ||||
溫度 | 加熱區 | 型式 | 管徑 | 長度 | ||||||
CVD | 1200～ 1700℃ | 220～ 440mm | 臥式、滑動式 | Φ60～ Φ100 | 600～ 1600 | 無 | 10Pa | MFC單路或多路控制 | 可選 |
（可選） |
CVI | 1200～ 1700℃ | 220～ 440mm | 立式、滑動式 | Φ60～ Φ100 | 600～ 1600 | 無 | ||||
PECVD | 1200℃ | 220～ 440mm | 臥式、滑動式 | Φ60～ Φ100 | 1200～ 1600 | 300～ 500W | ||||
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