粉碎程度：
超細(xì)粉碎單位能耗：
每小時耗電量在25-37度左右產(chǎn)量：
1.3-2.5噸/小時裝機功率（kw）：
30-37成品細(xì)度：
納米級別入料粒度（mm）：
最大0.5工作原理：
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大流量和高粘度產(chǎn)品的理想之選
創(chuàng)新型 DYNO?-MILL ECM-AP 系列旨在提高產(chǎn)量。
研磨效率高，可研磨到納米級范圍。具有自清潔效果的**分離系統(tǒng)，提高了對高粘性產(chǎn)品的可駕駛性。可以避免因篩網(wǎng)堵塞清洗而導(dǎo)致生產(chǎn)的中斷。針對高粘性產(chǎn)品，這是一個非常大的優(yōu)勢。
研磨介質(zhì)分離系統(tǒng)的特點是流量優(yōu)化和導(dǎo)向研磨介質(zhì)回路。研磨介質(zhì)在導(dǎo)流環(huán)的軸向引導(dǎo)下通過篩網(wǎng)表面。然后，DYNO?-ACCELERATOR DSE 將研磨介質(zhì)輸送回導(dǎo)流環(huán)，而不會將其撕裂。
研磨介質(zhì)在篩面上的軸向引導(dǎo)有助于將較粗的顆粒從其流經(jīng)的橫截面上清除，這也是 DYNO?-MILL ECM-AP 分離系統(tǒng)獨特的自清潔效果的基礎(chǔ)。
缸體凈容積為9升，采用WAB高效渦輪加速器，比傳統(tǒng)盤片式機型效率提升6~8倍
渦輪加速器能確保研磨珠高能量均勻運動，從而保證了高效一致的能量輸入，能滿足黏度從低到高各種產(chǎn)品的研磨需求
較小的研磨容積和理想的冷卻效果確保了對溫度敏感產(chǎn)品的順利研磨
不用打開缸體就能更換篩網(wǎng)，便于維護保養(yǎng)
材質(zhì)和設(shè)計實現(xiàn)了更為方便的清洗，節(jié)省了清洗時間和成本，很好地適應(yīng)客戶在多種產(chǎn)品之間的快速轉(zhuǎn)換
缸體和渦輪盤有不銹鋼，硬化不銹鋼，碳化硅，硬鉻合金，氧化鋯等材質(zhì)選擇，確保了更長的使用壽命
AP系列還有0.5升，1.9升，21升，62升等缸體容積可供客戶選擇
研磨介質(zhì)分離系統(tǒng)的特點是流量優(yōu)化和導(dǎo)向研磨介質(zhì)回路。研磨介質(zhì)在導(dǎo)流環(huán)的軸向引導(dǎo)下通過篩網(wǎng)表面。然后，DYNO?-ACCELERATOR DSE 將研磨介質(zhì)輸送回導(dǎo)流環(huán)，而不會將其撕裂。
研磨介質(zhì)在篩面上的軸向引導(dǎo)有助于將較粗的顆粒從其流經(jīng)的橫截面上清除，這也是 DYNO?-MILL ECM-AP 分離系統(tǒng)獨特的自清潔效果的基礎(chǔ)。
適用于高產(chǎn)量和高粘度產(chǎn)品
更靈活地選擇工藝參數(shù)
提供金屬和陶瓷款式
研磨腔內(nèi)研磨介質(zhì)密度分布均勻，可實現(xiàn)最高效率
可使用 ? 0.1 mm 以下的研磨介質(zhì)進行高效研磨
加速器使研磨珠產(chǎn)生有力的流體運動，從而降低的能耗
整體優(yōu)化流量控制，實現(xiàn)最佳顆粒停留時間分布
適用于生產(chǎn)所有類型的納米懸浮液
適合通道模式和循環(huán)模式
研磨腔可提供專利排氣系統(tǒng)排氣
屏幕壽命長
機器操作簡單且符合人體工程學(xué)原理，可實現(xiàn)最快的產(chǎn)品更換
在更換產(chǎn)品時將清潔劑的成本降至最低
通過對研磨腔進行有效冷卻，可研磨對溫度敏感的產(chǎn)品
先進的控制理念使得研磨機非常易于操作
低噪音
多種控制解決方案
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WAB-GROUP? 和 Glatt Pharmaceutical Services CDMO Unlimited 強強聯(lián)手，運用他們的專業(yè)知識為您提供高端納米研磨和顆粒設(shè)計服務(wù)，以提高藥物的溶解度。
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移動端
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