探測器:
BSD, SED (可選), EDS (可選)加速電壓:
4.8kV-20.5kV連續可調電子槍:
CeB6電子光學放大:
200,000X光學放大:
3-19X分辨率:
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飛納臺式掃描電鏡大樣品室版 Phenom XL G2
Phenom XL (電鏡腔室 100mm x 100mm)具有飛納電鏡系列以下優點:
超高分辨
—— 10 nm,**采用長壽命 1500 小時、高亮度的 CeB6 燈絲
快速成像
—— 抽真空時間小于 30 秒
簡易操作
—— 光學 + 低倍電子導航定位,結合全自動馬達樣品臺移動觀測位置
直接觀測絕緣體
—— 低真空設計,實現不噴金看絕緣體,且不影響燈絲壽命
高度自動化
—— 自動聚焦,自動調節對比度亮度,拍照簡單快速
放置環境無特殊要求
—— 無需獨立實驗室,無需超凈間
防震設計
—— 緊湊的一體化設計,可不用防震臺擺放在高層
產品參數
光學顯微鏡:放大 3-16 倍
電子顯微鏡:200,000 倍
探測器:高靈敏度四分割背散射電子探測器
燈絲材料:1,500 小時 CeB6 燈絲
分辨率:優于 8 nm
放置環境:采用專業防震設計,可擺放于普通實驗室或辦公室、廠房
加速電壓:4.8kV-20.5kV 連續可調
抽真空時間:小于 30 秒
能譜儀:可選配能譜儀
同時,Phenom XL 做出了如下改進,使其在擁有臺式掃描電鏡操作簡單等特點的前提下,具備大型落地式電鏡的高分辨率、多功能和拓展性強等優勢:
Phenom XL 大樣品室**版可選配所有的拓展功能軟件選件,如 3D 粗糙度重建,纖維統計分析測量系統,顆粒統計分析測量系統,孔徑統計分析測量系統。
● 全自動顯微平臺Phenom XL + 拉伸臺
飛納電鏡此次的新品發布會上會呈現的產品——拉伸臺。此產品也是飛納臺式掃描電鏡Phenom XL 一項重大拓展。拉伸臺是一種動態觀察和分析材料微觀變形形貌及斷裂機制的手段,在材料科學前沿研究中發揮了重要作用。掃描電鏡原位拉伸臺的**特點是,在進行應力—應變力學定量測試的同時, 利用掃描電鏡的強大的景深、高空間分辨和分析功能,在微觀層面上對材料的力學性能進行動態研究。拉伸臺可以為很多材料做拉伸測試,如金屬材料(研究韌斷過程、應力誘發相變及塑性變形),高分子材料,陶瓷材料等。飛納臺式掃描電鏡的原位拉伸臺能實現 2N to 1000N 的拉力區間,拉伸速度可實現 0.1mm/min 到 15mm/min,滿足幾乎所有領域樣品的原位拉伸觀測。
飛納臺式掃描電鏡大樣品室版 Phenom XL 拉伸臺
顆粒統計分析測量系統
顆粒統計分析測量系統軟件可以輕松獲取、分析圖片,并生成報告。借助該軟件,用戶可以收集到大量亞微米顆粒的形貌和粒徑數據。憑借遠超光鏡的放大倍數,顆粒軟件全自動化的測量,可以把工業粉末的設計、研發和品管提升到一個新臺階。
借助顆粒系統軟件,用戶可隨時獲得數據。因此,它加快了分析速度,并提高了產品質量。
臺式掃描電鏡在粉末冶金領域的應用
1. 粉體形貌、粒度觀察(<10000×,低壓SED)
2. 粉體粒度統計(使用飛納電鏡軟件-顆粒統計分析測量系統)
3. 燒結件缺陷檢查(使用飛納電鏡軟件-超大視野自動全景拼圖)
4. 成品表面質量檢查+雜質判定(掃描電鏡+能譜)
5. 脫脂前后形貌觀察
拉伸臺,顆粒統計分析測量系統
2020-12-09
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